| 通過(guò)使之與基準(zhǔn)平面或平面曲面對(duì)齊，可生成一個(gè)通過(guò)模型的平面剖面。單擊 或“視圖”(View)>“視圖管理器”(View Manager)�！耙晥D管理器”(View Manager) 對(duì)話(huà)框打開(kāi)。單擊“剖截面”(Xsec)。單擊“新建”(New)。出現(xiàn)一個(gè)缺省的剖面名稱(chēng)。按 ENTER 鍵�！捌式孛鎰�(chuàng)建”(XSEC CREATE) 菜單打開(kāi)。要通過(guò)單個(gè)基準(zhǔn)平面創(chuàng)建橫截面，請(qǐng)單擊“平面”(Planar)>“單一”(Single)>“完成”(Done)。要通過(guò)陣列的所有基準(zhǔn)平面創(chuàng)建橫截面，請(qǐng)單擊“平面”(Planar)>“陣列”(Pattern)>“完成”(Done)。“選取”(SELECT) 對(duì)話(huà)框打開(kāi)。執(zhí)行下列操作之一：選取與模型相交的平面曲面或基準(zhǔn)平面。如果正在通過(guò)陣列的所有基準(zhǔn)平面創(chuàng)建橫截面，則選取屬于該陣列的任意基準(zhǔn)平面。 在“視圖管理器”(View Manager) 中，單擊“顯示”(Display)>“設(shè)置可見(jiàn)性”(Set Visible)。“可見(jiàn)性”(Visibility) 對(duì)話(huà)框打開(kāi)。單擊“顯示剖面線(xiàn)”(Show X-Hatching) 查看剖面。單擊 預(yù)覽或單擊 接受選取的選項(xiàng)。
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